颗粒膜中的电流驱动斯格明子运动
介观与纳米尺度物理
2020-04-27 v1
摘要
研究了随机颗粒膜中的电流驱动斯格明子运动,获得了有趣发现。对于给定的电流,存在一个临界无序强度,低于该强度时其横向运动在临界阻尼以下可被增强,而在临界阻尼以上则受抑制,从而导致斯格明子霍尔角对电流与无序的依赖关系。这种增强主要来自与驱动力(电流)相反的随机力。临界阻尼依赖于电流密度与无序强度。然而,斯格明子的纵向运动总是受到无序的阻碍。高于临界无序强度时,斯格明子被钉扎。作用在斯格明子上的无序诱导随机力可分类为静随机力与动随机力,类似于牛顿力学中的摩擦力。在钉扎相中,静(钉扎)随机力垂直于电流密度。当斯格明子运动时,动随机力与斯格明子速度相反。此外,我们提供了强有力的证据,表明 Thiele 方程能完美描述颗粒膜中的斯格明子动力学。这些发现为斯格明子运动提供了见解,并对斯格明子电子学具有重要意义。
引用
@article{arxiv.1911.01245,
title = {Current-driven skyrmion motion in granular films},
author = {Xin Gong and H. Y. Yuan and X. R. Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:1911.01245},
year = {2020}
}
备注
10 pages, 10 figures