空穴掺杂铜氧化物中层间隧穿导致的交叉条纹序
强关联电子
2014-09-08 v2
摘要
受近期在空穴掺杂铜氧化物赝能隙区观察到电荷序的启发，我们表明相干的、动量依赖的层间隧穿可以稳定交叉（crisscrossed）条纹序，这种隧穿已知存在于多种铜氧化物材料中。我们进一步描述了层间耦合的细微变化如何导致各种条纹序排列，并讨论了我们的结果对近期欠掺杂铜氧化物实验的意义。
引用
@article{arxiv.1406.4154,
title = {Crisscrossed stripe order from interlayer tunneling in hole-doped cuprates},
author = {Akash V. Maharaj and Pavan Hosur and S. Raghu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1406.4154},
year = {2014}
}
备注
20 pages, 9 figures. Journal reference added