填充因子ν=2下量子霍尔边缘通道中列维子的碰撞干涉测量

我们考虑将洛伦兹电压脉冲施加于填充因子$\nu=2$的量子霍尔边缘通道上的Hong-Ou-Mandel干涉仪。由于边缘间相互作用，注入的电子波包在量子点接触处分束前发生分馏。值得注意的是，与利用其他注入技术所理论预测和实验观测的不同，我们证明当通过随时间变化的电压脉冲（任意形状）注入时，对于对称器件Hong-Ou-Mandel噪声信号总是消失，并且需要在注入器与碰撞点之间的距离上存在失配才能降低凹陷的可见度。我们还表明，通过适当调节这些距离或在干涉仪各臂的两个边缘通道上施加不同电压，可以估计边缘间相互作用的强度。电压脉冲选择洛伦兹型是因为其实验相关性。