石墨烯中拓扑缺陷之间的吸引作用
介观与纳米尺度物理
2016-11-18 v1
摘要
通过计算机模拟研究了石墨烯中Stone-Wales拓扑缺陷的相互作用。该模拟揭示了两个缺陷的构型能量低于具有两个分离缺陷的单层能量。这表明缺陷之间存在吸引作用，并且可能形成缺陷簇。该吸引源于缺陷引起的单层结构波状畸变之间的干涉。在这种情况下，一对缺陷附近原子的横向位移幅度达到2-3埃。Stone-Wales缺陷对石墨烯的这种强烈变形可能是其实验上观察到的“皱缩”纹理的原因之一。
引用
@article{arxiv.1503.07296,
title = {Attraction between topological defects in graphene},
author = {A. I. Podlivaev and L. A. Openov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1503.07296},
year = {2016}
}
备注
11 pages, 4 figures