低场和超低场 MRI 中的 Echo-Planar 成像伪影校正
计算机视觉与模式识别
2026-05-26 v1
摘要
目的：Echo-Planar 成像（EPI）在低场（LF）和超低场（ULF）磁共振成像（MRI）中因奇偶 k 空间错位而导致严重的 nyquist 幽灵伪影。本研究开发了一种减少对传统参考扫描依赖的参考无伪影校正管线，同时实现改进的幽灵抑制。方法：从传统的参考扫描基于幽灵伪影校正方法开始，我们首先引入基于峰对齐的幽灵伪影校正方法，以无参考数据纠正奇偶行位移。为进一步减少残余伪影，应用插值与重采样策略。该组合方法使用 LF 和 ULF 中的 EPI 和扩散加权 EPI 数据进行评估。结果：所提出的管线有效缓解了 nyquist 幽灵伪影，改善了结构连续性，增强了信号均匀性。基于峰对齐的幽灵伪影校正方法单独提供了与参考扫描基于幽灵伪影校正方法相当的伪影抑制效果，而插值和重采样进一步抑制了残余伪影，使在 ULF 条件下能够可靠地可视化大脑结构。结论： presented for LF 和 ULF EPI，结合基于峰对齐的幽灵伪影校正方法和插值-重采样，以实现高效的幽灵抑制并扩展低场 MRI 系统的临床适用性，为 ULF EPI 基于 DWI 成像提供理论指导和实践经验。
引用
@article{arxiv.2605.25589,
title = {Artifact Correction for Echo-Planar Imaging at Low-Field and Ultra-Low-Field MRI},
author = {Sisi Qiao and Yilin Yu and Tiecheng Lin and Yuhao Liu and Jiajia Sun and Xiaoling Li},
journal= {arXiv preprint arXiv:2605.25589},
year = {2026}
}
备注
19 pages, 10 figures, 2 tables