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ARF-Plus:在艺术辐射场中控制感知因子以实现 3D 场景风格化

计算机视觉与模式识别 2025-04-25 v3 图形学

摘要

辐射场风格迁移是一个新兴领域,由于神经辐射场在 3D 重建与视角合成中的卓越表现,近来作为 3D 场景风格化的手段而受到欢迎。我们指出了辐射场风格迁移中的一个研究空白,即缺乏充分的感知可控性,其动机来自 2D 图像风格迁移中的已有概念。在本文中,我们提出 ARF-Plus,一个提供对感知因子可管理控制的 3D 神经风格迁移框架,以系统性地探索 3D 场景风格化中的感知可控性。四种不同类型的控制——颜色保持控制、(风格图案)尺度控制、空间(选择性风格化区域)控制以及深度增强控制——被提出并集成到该框架中。来自真实世界数据集的定量与定性结果表明,我们的 ARF-Plus 框架中的四类控制在风格化 3D 场景时成功实现了其相应的感知控制。这些技术对单一风格输入以及场景中多种风格同时应用均表现良好。这开启了一个无限可能的领域,允许对风格化效果进行定制修改并灵活融合不同风格的优势,最终能够在 3D 场景上创造新颖且引人注目的风格化效果。

关键词

引用

@article{arxiv.2308.12452,
  title  = {ARF-Plus: Controlling Perceptual Factors in Artistic Radiance Fields for 3D Scene Stylization},
  author = {Wenzhao Li and Tianhao Wu and Fangcheng Zhong and Cengiz Oztireli},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2308.12452},
  year   = {2025}
}

备注

Accepted at WACV 2025. The published version is available at https://ieeexplore.ieee.org/document/10944114