应用光衍射理论表征 mitigated KDP 晶体的下游光场调制特性
光学
2021-02-03 v1
摘要
微铣削可有效去除 KDP（磷酸二氢钾）表面的激光损伤点，从而提高元件的抗激光损伤能力。然而，修复后的 KDP 表面可能引起光传播湍流与下游光强增强，存在损伤下游光学元件的潜在风险。为分析 KDP 晶体上高斯修复坑引起的下游光场调制，基于角谱理论与高斯修复轮廓建立了下游光衍射的计算模型。结果表明，修复表面引起的相位偏移在 KDP 后表面附近产生较大的光场调制。整个下游光场中产生的调制大于振幅变化所引起的调制。因此，出射光的相位特征可建议作为未来研究修复轮廓引起下游光场调制的重要课题。值得注意的是，下游光强分布的实验结果与仿真结果吻合良好，证明了所建下游光衍射模型的有效性。提出将出射光的相位表征作为 KDP 晶体修复中的一种评估工具。所发展的解析方法与数值离散算法也可用于表征高功率激光系统中其他光学元件的修复质量。
引用
@article{arxiv.2008.10047,
title = {Application of light diffraction theory to qualify the downstream light field modulation property of mitigated KDP crystals},
author = {Hao Yang and Jian Cheng and Zhichao Liu and Qi Liu and Linjie Zhao and Chao Tan and Jian Wang and Mingjun Chen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2008.10047},
year = {2021}
}