YFeO$_3$ 薄膜中由反相边界稳定的反位缺陷
材料科学
2021-07-21 v1
摘要
YFeO 薄膜是多铁性正交铁氧体家族的新成员，其中已表明 Y\textsubscript{Fe} 反位缺陷和应变能引入极化位移同时保持磁性。然而，对多铁性性质的完全控制需要了解存在的缺陷及其在改变行为中的潜在作用。在此，我们利用像差校正扫描透射电子显微镜结合原子分辨率能量色散 X 射线光谱，报道了多铁性 YFeO 薄膜中反相边界的结构与化学。我们发现 Fe\textsubscript{Y} 反位（在薄膜体相中不稳定）由于局部环境的变化而沿反相边界周期性排列。利用密度泛函理论，我们表明反相边界是极化的且双稳态的，其中 Fe\textsubscript{Y} 反位的存在显著降低了翻转势垒。这些结果突出了诸如反相边界之类的面缺陷如何稳定原本不应在结构中形成的点缺陷。
引用
@article{arxiv.2107.09152,
title = {Antisite defects stabilized by antiphase boundaries in YFeO$_3$ thin films},
author = {Abinash Kumar and Konstantin Klyukin and Shuai Ning and Cigdem Ozsoy-Keskinbora and Mikhail Ovsyanko and Felix van Uden and Ruud Krijnen and Bilge Yildiz and Caroline A. Ross and James M. LeBeau},
journal= {arXiv preprint arXiv:2107.09152},
year = {2021}
}