一种基于epsilon-near-zero的Dallenbach吸收体
光学
2022-01-05 v1
摘要
我们报道了一种由镜面金属基底上的有损涂层构成的结构中全吸收条件的理论分析，该结构称为Dallenbach吸收体。针对平面波正入射情形，描述了提供完全吸收的涂层材料复折射率与涂层厚度所有可能的组合。详细分析了基于epsilon-near-zero（ENZ）材料的涂层工作机制。获得了全吸收条件的简单解析关系。结果表明，强吸收发生的角度范围受全外反射现象限制。分析了以氧化铟锡（一种ENZ材料实例）为基底的涂层特性。
引用
@article{arxiv.2107.07607,
title = {An epsilon-near-zero-based Dallenbach absorber},
author = {Viacheslav V. Medvedev},
journal= {arXiv preprint arXiv:2107.07607},
year = {2022}
}