一种用于去除原生 $\text{AlO}_\text{x}$ 层以实现相干超导接触的氩离子束铣削工艺

我们提出了一种氩离子束铣削工艺，用于去除铝薄膜在光刻步骤之间暴露于大气中而形成的原生氧化层。我们的清洁工艺易于与约瑟夫森结量子电路的常规制造工艺集成。通过测量带有和不带有接触的超导微波谐振器的内部品质因数，我们确定了在 4.5 GHz 频率下，经离子束铣削的接触的残余电阻上限为 $50\,\mathrm{m}\Omega \cdot \mu \mathrm{m}^2$。对于仅在低电场和高磁场区域有占总面积 $6\%$ 暴露于离子束铣削的谐振器，其在单光子区表现出超过 $10^6$ 的品质因数，且与单层样品相比没有退化。我们相信这些结果将促进用于量子信息处理的日益复杂的超导电路的发展。