基于Eu$^{3+}$:Y$_2$SiO$_5$光谱烧孔的光学频率参考的绝对与相对稳定性

我们展示并分析了四次频率测量，旨在表征基于\EuYSO光谱烧孔的光学频率参考的性能。第一次频率比较是在单个未受扰动的光谱烧孔与氢脉泽之间进行的，结果表明分数频率漂移率为$5 \times 10^{-18}$ s$^{-1}$。光谱烧孔图案、法布里-珀罗腔和Al$^+$光学原子钟之间的光学频率比较显示，短期分数频率稳定性为$1 \times10^{-15} \tau^{-1/2}$，在$\tau = 540$ s时平均降至$2.5^{+1.1}_{-0.5} \times 10^{-16}$（已去除线性频率漂移）。最后，比较了位于同一低温容器中两个不同\EuYSO晶体中的光谱烧孔图案，得到短期稳定性为$7 \times10^{-16} \tau^{-1/2}$，在$\tau = 204$ s时平均降至$5.5^{+1.8}_{-0.9} \times 10^{-17}$（已去除二次频率漂移）。