定量宽场量子显微术中的像差控制
光学
2022-09-27 v1 介观与纳米尺度物理
应用物理
量子物理
摘要
基于金刚石中氮空位（NV）中心的宽场量子显微术已成为一种以亚微米分辨率定量绘制磁场图的强大技术。然而，该技术的精度迄今尚未被详细表征。在此我们表明，成像系统中的光学像差可能在被测物理量中引起超出普通模糊的大系统误差。我们引入了一个简单的理论框架来建模这些效应，该框架将点扩散函数的概念扩展到光谱成像领域。利用此模型，在各种场景下模拟了测试磁样品的磁场成像，并量化了由此产生的误差。然后我们将该模型应用于已发表的数据，表明表观磁异常可由光学像差的存在解释，并展示了一种后处理技术以更高精度恢复源物理量。本工作为预测和减轻基于 NV 的定量宽场成像及更一般的光谱成像中像差引起的伪影提供了指南。
引用
@article{arxiv.2207.12675,
title = {Aberration control in quantitative widefield quantum microscopy},
author = {S. C. Scholten and I. O. Robertson and G. J. Abrahams and Priya Singh and A. J. Healey and J. -P. Tetienne},
journal= {arXiv preprint arXiv:2207.12675},
year = {2022}
}
备注
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