一种高熵硅化物：(Mo0.2Nb0.2Ta0.2Ti0.2W0.2)Si2
材料科学
2019-03-19 v4
摘要
一种高熵二硅化金属 (Mo0.2Nb0.2Ta0.2Ti0.2W0.2)Si2 已成功合成。X射线衍射（XRD）、能量色散X射线光谱（EDX）和电子背散射衍射（EBSD）共同表明形成了单一高熵硅化物相。该高熵 (Mo0.2Nb0.2Ta0.2Ti0.2W0.2)Si2 具有六方C40晶体结构，呈ABC堆垛序列，点群为P6222。这一发现将已知的高熵材料家族从金属、氧化物、硼化物、碳化物和氮化物扩展到了硅化物，据我们所知尚属首次，并且表明一种新的非立方晶体结构（具有较低对称性）也可制成高熵。该 (Mo0.2Nb0.2Ta0.2Ti0.2W0.2)Si2 表现出16.7 ± 1.9 GPa的高纳米硬度和11.6 ± 0.5 GPa的维氏硬度。此外，其热导率低至6.9 ± 1.1 W m-1 K-1，约比广泛使用的四方MoSi2低一个数量级，且约为具有同种晶体结构的六方NbSi2和TaSi2报道值的1/3。
引用
@article{arxiv.1902.01033,
title = {A High-Entropy Silicide: (Mo0.2Nb0.2Ta0.2Ti0.2W0.2)Si2},
author = {Joshua Gild and Jeffrey Braun and Kevin Kaufmann and Eduardo Marin and Tyler Harrington and Patrick Hopkins and Kenneth Vecchio and Jian Luo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1902.01033},
year = {2019}
}
备注
18 pages; 5 + 1 figures