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利用不同超越 DFT 方法对金属钒电子结构的详细研究

强关联电子 2020-01-22 v2

摘要

我们报道了利用 DFT、DFT+UUG0W0G_0W_0GW0GW_0 和 DFT+DMFT 方法对钒(V)进行的详细电子结构计算。由 cRPA 方法计算的 WWUUJJ 值分别为 \sim1.1、\sim3.4 和 \sim0.52 eV。计算谱(CS)与实验谱(ES)的比较表明,WWUU)对于 DFT+UU(DFT+DMFT)方法更为准确。这些方法所得 CS 的峰位与 ES 吻合较好,但 GW0GW_0 除外。ES 中位于 \sim -1.5 eV 和 \sim1.0 eV 处的谷的浅度仅能由 DFT+DMFT 方法恰当解释,这归因于非相干 t2gt_{2g} 态的存在。本工作表明,即便对于简单金属,要恰当解释 ES 也需借助复杂多体理论。

关键词

引用

@article{arxiv.1909.12267,
  title  = {A detailed electronic structure study of Vanadium metal by using different beyond-DFT methods},
  author = {Antik Sihi and Sudhir K. Pandey},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1909.12267},
  year   = {2020}
}