随机序列与定义序列光刻胶薄膜的空间统计比较
软凝聚态物质
2024-09-25 v1 材料科学
摘要
分辨率-线缘粗糙度灵敏度权衡现象促使人们探索使用定义序列聚合物和聚合物结合的光酸发生器与 quenchers 以寻求改进方案。本研究对正 tone 光刻胶聚合物薄膜的内部结构进行表征，并将其与相同配比的随机共聚物进行比较。我们对其成像进行建模，以建立初始结构与可开发薄膜结构之间的联系。采用聚合物 Packing 算法模拟构成多样且光酸发生器与 quenchers 位置的薄膜，算法基于 ESCAP 光刻胶配方。我们采用简单的 EUV 曝光-脱保护算法来模拟薄膜中可开发图像的形成。在所有情况下，定义序列聚合物薄膜中化学基团的空间分布几乎与随机共聚物不可区分。我们评估了多个曝光-脱保护情景，发现特定情况下，定义序列共聚物具有独特的可开发图像。使用定义序列聚合物并不自动导致改进的成像效果，但它们确实具有与相同配比随机聚合物不同的特性。进一步研究这些特性可能为改进纳米尺度成像过程的控制提供途径。
引用
@article{arxiv.2409.15358,
title = {A Comparison of the Spatial Statistics of Random and Defined-Sequence Photoresist Films},
author = {William D. Hinsberg and Frances A. Houle},
journal= {arXiv preprint arXiv:2409.15358},
year = {2024}
}