采用 CMOS 兼容工艺制备的谷光子晶体波导
光学
2024-01-11 v1 应用物理
摘要
谷光子晶体（VPhC）波导因能够实现抗急弯的鲁棒光传播而备受关注。然而，尚未有报道在适用于量产的互补金属氧化物半导体（CMOS）兼容工艺下于电信波长实现该类波导。在此，通过定制光掩模以抑制光学邻近效应，利用光刻技术成功制备了由等边三角形孔组成的 VPhC 图案。我们使用具有近红外成像的显微光学对制备的 VPhC 器件进行了光学表征。作为比较，我们还制备并表征了线缺陷 W1 PhC 波导，当波导中引入急弯时，其传输强度在工作带宽内某些区域出现下降。相比之下，所开发的 VPhC 波导能够在 C 波段电信波长附近鲁棒地传播光，即使存在急弯也是如此。我们的结果凸显了 VPhC 波导作为硅拓扑光子集成电路中互连技术的潜力。
引用
@article{arxiv.2305.07747,
title = {Valley photonic crystal waveguides fabricated with CMOS-compatible process},
author = {Takuto Yamaguchi and Hironobu Yoshimi and Miyoshi Seki and Minoru Ohtsuka and Nobuyuki Yokoyama and Yasutomo Ota and Makoto Okano and Satoshi Iwamoto},
journal= {arXiv preprint arXiv:2305.07747},
year = {2024}
}
备注
18 pages, 6 figures