Gamma Factory 上的真空双折射
高能物理 - 唯象学
2021-07-06 v1
摘要
我们探讨了在 Gamma Factory 研究真空双折射的前景。为此，我们详细评估了可借助海森堡-欧拉有效拉格朗日量的主导贡献可靠分析的参数区间。我们明确表明——与朴素预期相反——该方法允许在相当大的光子能量下对量子真空特征进行精确理论研究。该参数区间的一大优势是能够在实验上现实的、明显非均匀的泵浦与探测场构型中研究该现象。此后，我们聚焦于产生穿越伽马探测光子的真空双折射效应的两种具体情形。在第一种情形中，双折射现象由准恒定静磁场诱导。第二种情形则由反向传播的高强度激光场驱动。
引用
@article{arxiv.2106.06359,
title = {Vacuum birefringence at the Gamma Factory},
author = {Felix Karbstein},
journal= {arXiv preprint arXiv:2106.06359},
year = {2021}
}
备注
20 pages, 3 figures; contribution to a special issue devoted to the "Physics Opportunities with the Gamma Factory"