Unitho：计算光刻的统一多任务框架

可靠且可泛化的数据基础对启用大规模计算光刻模型至关重要。然而，关键任务-掩码生成、规则违规检测和布局优化-往往被孤立处理，受限于稀缺数据集和有限的建模方法。为解决这些挑战，我们引入Unitho，一个基于Transformer架构构建的统一多任务大型视觉模型。该模型在包含数十万案例的大规模工业光刻仿真数据集上进行训练，支持端到端的掩码生成、光刻仿真和规则违规检测。通过实现灵活且高保真的光刻仿真，Unitho进一步促进了智能EDA构建稳健数据基础的构建。实验结果验证了其有效性和通用性，性能显著优于学术基准。