通过条带状磁畴构型调控Mo$_2$N薄膜中的涡旋临界速度
超导电性
2023-11-02 v2
摘要
我们报道了磁畴条带构型对超导/铁磁双层中涡旋临界速度的影响。使用23 nm厚的MoN薄膜，其上覆盖48 nm具有可调纳米尺度条带畴的FePt层，我们证明低磁场下的磁通不稳定性取决于条带的取向。当条带垂直于外加电流并充当涡旋导向时，速度值达到5 km/s，是条带平行于电流配置（形成蜿蜒涡旋路径）时的两倍。我们的结果表明，涡旋临界速度可通过配置不同畴结构进行调控，为理解超导微带中的涡旋动力学提供了平台。
引用
@article{arxiv.2310.18524,
title = {Tuning vortex critical velocity in Mo$_2$N thin films via striped magnetic domain configuration},
author = {Gastón Blatter and Martín Sirena and Yeonkyu Lee and Jeehoon Kim and Nestor Haberkorn},
journal= {arXiv preprint arXiv:2310.18524},
year = {2023}
}
备注
5 pages, 3 figures