迈向深虚介子产生的拟合程序——次领头阶情形

基于共线因子化方法，我们对深虚介子产生（DVMP）进行了全面的微扰次领头阶（NLO）分析。我们在共形 Mellin 空间中的表示可作为全局拟合程序的基础，以便从 DVMP 和深虚康普顿散射（DVCS）的实验测量中获取广义部分子分布。我们引入了一种相当通用的形式体系来评估共形矩，该体系可在此基础上超越所考虑的阶数进一步发展。我们还确认了纯单态夸克通道中先前的图解发现。最后，我们利用硬散射振幅的解析性质定性估计了辐射修正的大小，并用一些数值例子说明了这些考量。结果表明，包含 DVMP 和 DVCS 数据的全局 NLO GPD 拟合可能比通常担心的更为稳定。