$z\sim2$ 处矮星系的静止紫外光谱性质

静止紫外光谱可以限制恒星种群、外流、覆盖分数的性质，并能间接限制星系的莱曼连续谱逃逸分数。许多工作已经研究了通过强星云发射线或 Ly$\alpha$ 发射线选取的较高质量恒星形成星系和低质量星系的静止紫外光谱。然而，在恒星形成峰值时期（$z\sim2$）的低质量无偏样本上，尚未进行过静止紫外光谱研究。我们展示了 $z\sim2$ 处由 16 个矮星系（$\rm \langle log(M^*/M_\odot)\rangle_{median} = 8.2$）组成的完整样本的叠加静止紫外光谱。该静止紫外 Keck/LRIS 光谱由静止光学 Keck/MOSFIRE 光谱和 Hubble 测光补充。我们发现，与来自 KBSS 的较高质量（$\rm \langle log(M^*/M_\odot)\rangle_{median} = 10.3$）组合体（$\rm EW_{Ly\alpha} = -5\;$\AA）相比，其 Ly$\alpha$ 等值宽度（$\rm EW_{Ly\alpha} = 11.2\;$\AA）通常更大。矮星系中的平均低电离和高电离吸收线等值宽度（分别为 $\rm EW_{LIS}$ 和 $\rm EW_{HIS}$）比较高质量星系（$\rm EW_{LIS}$=-2.04 \AA, $\rm EW_{HIS}$=-1.42 \AA）更弱（$\rm EW_{LIS}$=-1.18 \AA, $\rm EW_{HIS}=$-0.99 \AA）。LIS 吸收线是光学厚的，因此是中性氢覆盖分数的良好示踪剂。较高的 $\rm EW_{Ly\alpha}$ 和较低的 $\rm EW_{LIS}$ 测量值均表明，在 $z\sim2$ 时低质量星系中的电离辐射逃逸分数更大。