Phi 及 B 型工厂中的辐射返回：下一级导数处的小角度光子发射
高能物理 - 唯象学
2011-09-13 v2 高能物理 - 实验
摘要
辐射返回提供了对电子-正电子湮灭产生强子横截截面进行测量的唯一方式，可覆盖广泛的能量范围。目前 phi 及 B 型工厂的高亮度 easily 补偿了因硬光子发射而产生的 alpha 附加因子。可被轻松识别的大角度光子最终态。然而，共线光子事件的速率因一个大对数而被放大，这在较低能量处尤其允许进行一种互补性测量。Monte Carlo 生成器 PHOKHARA 已扩展至共线区域，包括来自虚拟和实光子发射的下一级导数修正，借助最新的虚拟修正结果。此外，当前版本还包含 mu 与 π 双生产生的最终态辐射以及四个 π 的最终态。针对三个典型能量 1.02、4 与 10.6 GeV，本文给出实验分析的意义：研究这些新修正的规模，提出初始态与最终态辐射分离的可能性，探讨与基于结构函数的以往处理之间的差异。
引用
@article{arxiv.hep-ph/0212225,
title = {The radiative return at phi- and B-factories: small-angle photon emission at next to leading order},
author = {Henryk Czyz and Agnieszka Grzelinska and Johann H. Kuhn and German Rodrigo},
journal= {arXiv preprint arXiv:hep-ph/0212225},
year = {2011}
}
备注
13 pages, 25 figures. Misprint in Eq.(24) corrected