化学短程序对 Al-Ni 熔体原子扩散的影响
无序系统与神经网络
2009-11-11 v1 材料科学
摘要
我们利用无穿透性中子散射和分子动力学 (MD) 模拟研究了化学短程序 (CSRO)，其通过结构因子中的预峰呈现出来，并探讨其与 Al-Ni 熔体中自扩散的关系。在 1795K 下，随着组成变化，Ni 自扩散系数来自实验和模拟的数值呈非线性依赖，在 Al 富集侧呈现显著增大。这伴随着 CSRO的变化，随着 Al 含量的增加，这与 Ni 富集 Al-Ni 系统中原子 Packing 得更紧密有关。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0505287,
title = {The Influence of Chemical Short Range Order on Atomic Diffusion in Al-Ni Melts},
author = {S. K. Das and J. Horbach and M. M. Koza and S. Mavila Chatoth and A. Meyer},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0505287},
year = {2009}
}
备注
11 pages, 4 figures