微波鞘层 - 电压组合等离子体的时间行为
等离子体物理
2015-06-11 v1
摘要
微波鞘层 - 电压组合等离子体（MVP）是一种高密度等离子体源，可用作合适的等离子体加工装置（例如离子化物理气相沉积）。在本报告中，研究了沿直流偏置 Ti 棒维持的氩气 MVP 的时间行为。观察到两种等离子体模式：一种是微波等离子体早期的“氧化态”（OS），另一种是后期的“离子化溅射态”（ISS）。等离子体从 OS 到 ISS 的转变导致等离子体可见颜色发生显著变化，这是由 Langmuir 探针测得的等离子体密度显著增加所致。在 OS 中，等离子体主要由 Ar 离子主导，密度量级为 10^11 cm^-3。在 ISS 中，来自 Ti 棒的金属离子对离子成分有显著贡献，并产生更高密度的等离子体（10^12 cm^-3）。在非常低的输入微波功率（约 30 W）下，沿 Ti 棒长度方向产生了近乎均匀的高密度等离子体。光学发射光谱测量证实了 ISS 中存在溅射的 Ti 离子和 Ti 中性原子。
引用
@article{arxiv.1503.06530,
title = {Temporal behavior of microwave sheath-voltage combination plasma},
author = {Satyananda Kar and Hiroyuki Kousaka and Laxminarayan L. Raja},
journal= {arXiv preprint arXiv:1503.06530},
year = {2015}
}
备注
14 Pages, 9 figures. arXiv admin note: text overlap with arXiv:1411.3072