UO$_{2}$与UO$_{2+x}$中温度诱导的原子结构修饰
材料科学
2019-05-07 v1
摘要
我们利用中子全散射在 25–1000 范围内表征了 UO 与 UO,以评估温度与相界对局域及平均结构的影响。晶胞参数分析表明,两种材料表现出非常相似的热膨胀行为,且热膨胀数据位于标准经验模型不确定度的上限,表明热膨胀速率略快。UO 的原子位移参数显示了与既定相图相符的 UO 相界证据,尽管在测量的衍射图中 UO 超晶格峰受到抑制。对分布函数揭示 UO 与 UO 之间局域结构的差异非常小,且 PDF 特征由热效应主导。UO 与 UO 在 25–1000 间第一近邻 U–O 距离的收缩速率被证明与分子动力学模拟及先前在 1000 以上对 UO 所做的局域结构分析一致。
引用
@article{arxiv.1905.01421,
title = {Temperature-induced atomic-structure modifications in UO$_{2}$ and UO$_{2+x}$},
author = {Raul I. Palomares and Jennifer E. Szymanowski and Tiankai Yao and Joerg Neuefeind and Ginger E. Sigmon and Jie Lian and Maik Lang},
journal= {arXiv preprint arXiv:1905.01421},
year = {2019}
}
备注
11 pages, 8 figures