TCNQ自组装驱动的硼基单层膜上的分子覆盖

硼单层膜（也称为硼石膜）因其电子属性而近年来受到关注，例如能够形成具有不同性质的各种形态。本文研究了四氯基苯并二甲基（TCNQ）在硼基$\beta_{12}$和$\chi_3$上的吸附过程，使用密度泛函理论（DFT）。我们观察到分子通过范德华相互作用与硼基相互作用，在低覆盖极限下，TCNQ/硼基的结合强度相当于TCNQ/WSe$_2$。通过增加分子覆盖，$10^{13} \rightarrow 10^{14}$分子/cm$^{2}$，我们发现TCNQ在硼基上形成自组装（SA）结构，其中分子-分子相互作用支配SA过程。通过初步分子动力学模拟验证了SA-TCNQ在硼基上的结构稳定性。最后，我们表明范德华界面形式导致硼基层的空穴掺杂可以通过外部电场进行调控。我们认为，这些结果为对在有前景的二维材料硼基上吸附具有重要电子接受器性质的TCNQ原子尺度的理解提供了重要贡献。