CSNS/RCS注入过程中的横向涂绘研究
加速器物理
2015-10-19 v1
摘要
对于中国散裂中子源(CSNS)，采用H-剥离与相空间涂绘相结合的方法在快循环同步加速器(RCS)中累积高强度束流。本文首先研究了具有不同涂绘范围和不同涂绘方法的注入过程。利用ORBIT和MATLAB代码，获得了粒子分布和涂绘图像。然后，可以选择适合孔径尺寸和磁隙的合理涂绘范围。由于BH3和BV3的实际场均匀性不完全符合设计要求，还需要选择涂绘方法和涂绘范围以减小不良场均匀性的影响。
引用
@article{arxiv.1510.04794,
title = {Study on the transverse painting during the injection process for CSNS/RCS},
author = {Ming-Yang Huang and Sheng Wang and Nan Huang and Jing Qiu and Shou-Yan Xu and Liang-Sheng Huang},
journal= {arXiv preprint arXiv:1510.04794},
year = {2015}
}
备注
Submitted to proceedings of IPAC2015, Richmond, VA, USA, May 3-8, 2015