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介孔二氧化硅上吸附的惰性层⁴He的结构

其他凝聚态物理 2019-07-10 v1

摘要

我们通过蒸气压和比热容测量,研究了介孔二氧化硅(FSM-16)上吸附的惰性层⁴He的结构。比热容显示出由于局域固体部分向流体激发而产生的肖特基型峰。我们基于包含局域固体与激发流体贡献的模型,在宽温度区域分析了比热容,并阐明在高温下激发流体与局域固体共存。随着面密度接近超流体出现时的数值(n_C),流体量趋于零,这表明惰性层在略低于n_C时固化的可能性。

关键词

引用

@article{arxiv.1901.06768,
  title  = {Structure of inert layer 4He adsorbed on a mesoporous silica},
  author = {Junko Taniguchi and Kizashi Mikami and Masaru Suzuki},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1901.06768},
  year   = {2019}
}