CoFeB/Ru/CoFeB中反铁磁耦合的强温度依赖性
材料科学
2007-06-11 v2
摘要
我们研究了基于反平行耦合CoFeB/Ru/CoFeB三层膜的人工亚铁磁体(AFi)的饱和场和自旋翻转场在80K至600K温度范围内的温度依赖性。本文呈现的结果对于使用该系统的磁器件（例如基于自旋翻转开关的磁随机存储器）具有重要意义。与理论良好一致，饱和场Hsat的行为符合Hsat ~ H_0 (T/T_0)/sinh(T/T_0)，特征温度T_0 = 150K。在该模型内，Ru层的费米速度约为10^5 m/s，因此解释了基于Ru的AFi中耦合强度随温度的强烈变化。此外，在基于非晶CoFeB合金的AFi三层膜中观察到强单轴各向异性K_u = 2x10^3 J/m^3，且各向异性轴的角度分布很小。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0602609,
title = {Strong temperature dependence of antiferromagnetic coupling in CoFeB/Ru/CoFeB},
author = {N. Wiese and T. Dimopoulos and M. Rührig and J. Wecker and G. Reiss and J. Nogues and J. Sort},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0602609},
year = {2007}
}
备注
4 pages, 4 figures, accepted for publication in Europhys. Lett