LA 与 ULA 水平下阿尔法发射率测量变异来源的多中心研究
仪器与探测器
2014-04-17 v2
摘要
阿尔法发射率测量对于评估半导体行业中材料在生产过程中的适用性至关重要。最近发表的一项环测研究将相同样品分发至多个阿尔法计数中心，结果显示测得的阿尔法发射率存在显著的center-to-center 差异。对这些结果的单独分析假设，大部分变异可能源于样品到入射窗间距的差异。XIA 最近推出了一种超低本底计数器 UltraLo-1800（UltraLo），其工作原理与原研究中大多数中心使用的正比计数器根本不同。特别是，通过将样品置于计数体积内，它消除了上述样品到入射窗间距的问题，从而提供了检验该假设的机会。在这项工作中，我们简要回顾了 UltraLo 的工作原理，并描述了一项完全在 UltraLo 仪器上使用一组标准样品进行的新环测研究，该组样品包括原研究中使用的两个样品。本研究表明，对于 LA（低阿尔法，介于 2 至 50 alpha/khr-cm 之间）样品测量，剩余的站点间变异仅由计数统计引起。与原研究相比，ULA（超低阿尔法，< 2 alpha/khr-cm）样品测量的变异减少了三倍，测量结果表明残留活性变异现在主要源于站点间宇宙射线本底的差异。
引用
@article{arxiv.1401.1845,
title = {Sources of Variability in Alpha Emissivity Measurements at LA and ULA Levels, a Multicenter Study},
author = {B. D. McNally and S. Coleman and W. K. Warburton and J. Autran and B. M. Clark and J. Cooley and M. S. Gordon and Z. Zhu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1401.1845},
year = {2014}
}
备注
7 pages, 8 figures, 4 tables; Fixed typos, added discussion on potential for positive systematic bias per reviewer comments, quick formatting refresh. Accepted for publication in Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. A