软 X 射线辐照诱导层状 TiNCl 的金属化
材料科学
2020-10-06 v1 强关联电子
摘要
我们进行了软 X 射线谱学以研究层状过渡金属氮化物氯化物 TiNCl 的价带结构与化学态的光辐照时间依赖性。在软 X 射线辐照下，费米能级（EF）附近态的强度与 Ti3+ 组分增加，而 Cl 2p 强度降低。Ti 2p-3d 共振光电子能谱确认了具有 Ti 3d 特征的明显费米边。这些结果表明光致金属化源于 Cl 脱附导致的去插层，从而提供了一种控制 TiNCl 导电性质的新载流子掺杂方法。
引用
@article{arxiv.2010.01846,
title = {Soft x-ray irradiation induced metallization of layered TiNCl},
author = {Noriyuki Kataoka and Masashi Tanaka and Wataru Hosoda and Takumi Taniguchi and Shin-ichi Fujimori and Takanori Wakita and Yuji Muraoka and Takayoshi Yokoya},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.01846},
year = {2020}
}