用于介电激光加速器的带分布布拉格反射器硅双柱结构：设计与制备
加速器物理
2018-12-26 v2
摘要
介电激光加速器（DLAs）已被证明是微型化粒子加速器的良好候选。它们依赖微加工电介质，在适当激光照射下能够调制入射电子束的动能。本文展示一种带分布布拉格反射器的双柱结构，以模拟对电子路径的双面照射。该结构通过电子束光刻技术结合低温反应离子刻蚀工艺制备。此类结构能以约 150 MeV/m 的梯度加速注入的 28 keV 电子，并可进一步优化至 GeV/m 量级。
引用
@article{arxiv.1801.05234,
title = {Silicon dual pillar structure with a distributed Bragg reflector for dielectric laser accelerators: Design and fabrication},
author = {Peyman Yousefi and Joshua McNeur and Martin Kozák and Uwe Niedermayer and Florentina Gannott and Olga Lohse and Oliver Boine-Frankenheim and Peter Hommelhoff},
journal= {arXiv preprint arXiv:1801.05234},
year = {2018}
}