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室温绝缘铁磁(Ni,Co)1+2xTi1-xO3薄膜

材料科学 2019-09-04 v2 应用物理

摘要

绝缘单轴室温铁磁体是基于自旋波的普通器件的前提条件,当代铁磁体中的障碍在于铁磁性与大导电性的耦合。我们表明,单轴A1+2xA^{1+2x}Ti4+^{4+}1x_{1-x}O3_3(ATO),A=A=Ni2+^{2+}、Co2+^{2+}0.6<x10.6<x \leq 1薄膜在室温下即为电绝缘铁磁体。ATO与钛铁矿结构的八面体网络相似,但不同的八面体填充被证明是从反铁磁态切换到铁磁态的途径。八面体可连续填充至x=1x=1,或在ATO结构中空出(0.24<x<0-0.24<x<0)。在NiTiO3_3与CoTiO3_3钛铁矿中,分隔铁磁(Ni,Co)O层并中介铁磁层间反铁磁耦合的TiO层,可连续被(Ni,Co)O层替代,从而将ATO薄膜转变为具有丰富直接阳离子相互作用的铁磁绝缘体。

关键词

引用

@article{arxiv.1906.10974,
  title  = {Room-temperature insulating ferromagnetic (Ni,Co)1+2xTi1-xO3 thin films},
  author = {Yukari Fujioka and Johannes Frantti and Christopher Rouleau and Alexander Puretzky and Zheng Gai and Nickolay Lavrik and Andreas Herklotz and Ilia N. Ivanov and Harry M. Meyer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1906.10974},
  year   = {2019}
}