光化学酸生成的量子电动力学表述及其对光学光刻的启示
化学物理
2024-10-15 v3 光学
摘要
光化学酸生成从量子电动力学第一性原理出发进行了精炼。首先，我们简要回顾基于量子电动力学框架的光量子理论表述，以建立给定时空点处酸生成的概率。然后将量子力学酸生成与脱保护机制相结合，获得与光刻胶中图形形成直接相关的脱保护密度的概率描述。对随机脱保护密度进行了统计分析，以揭示随机图形形成的主要特征。
引用
@article{arxiv.2101.12598,
title = {Quantum electrodynamical formulation of photochemical acid generation and its implications on optical lithography},
author = {Seungjin Lee},
journal= {arXiv preprint arXiv:2101.12598},
year = {2024}
}
备注
10 pages, 3 figures, published version (ETRI Journal)