利用双曲超材料在传统紫外光源下通过干涉光刻将特征尺寸推进至 11 nm
光学
2022-09-07 v1
摘要
受成本与复杂度限制，传统干涉光刻难以实现超分辨光刻。我们在此开发了基于双曲超材料（HMMs）/光刻胶/金属等离子体波导的等离子体干涉光刻技术，在 365 nm 波长、TM 偏振下将特征尺寸理论上推进至 16 nm，甚至 11 nm。所提出的基于 HMMs 的波导可支持高-k 模式以实现超分辨光刻。此外，该光刻结构中所支持的等离子体模式可通过 HMMs 的尺寸与材料介电常数进行调控，这使得在传统紫外光下获得更高分辨率图形成为可能。我们的发现为在传统紫外光源下以低成本、大面积制造将纳米光刻节点推进至 10 nm 开辟了途径。
引用
@article{arxiv.2209.02383,
title = {Pushing the feature size down to 11 nm by interference photolithography with hyperbolic metamaterials under conventional UV light source},
author = {Xuefeng Yang and Shuxia Zhang and Baoji Wang and Xiaolin Cai and Xiaohua Li and Weiyang Yu and Qin Wang and snd Zhongliang Lu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2209.02383},
year = {2022}
}