利用非微扰三次与五次谐波产生探测硅表面及硅-二氧化硅界面
光学
2022-07-12 v1
摘要
我们在背向（反射）几何下，考察了当硅衬底上生长薄二氧化硅膜时，硅表面及硅与二氧化硅界面处位于深紫外与真空紫外的第3和第5谐波的产生。两种情况下，均发现谐波信号对驱动激光束偏振方向的强烈依赖。对两样品观测到的差异给出了定性解释。此外，我们引入了偏振依赖的简化张量形式，其揭示了表面与界面的结构对称性，并高精度描述偏振依赖。该研究是进一步理解材料边界上非线性相互作用与非微扰谐波产生的重要一步。
引用
@article{arxiv.2207.04411,
title = {Probing the surface of silicon and the silicon-silica interface using nonperturbative third and fifth harmonic generation},
author = {J. Seres and E. Seres and E. Cespedes and L. Martinez-de-Olcoz and M. Zabala and T. Schumm},
journal= {arXiv preprint arXiv:2207.04411},
year = {2022}
}