等离激元薄膜可以轻易做得更好：规则与配方
材料科学
2016-03-08 v1 光学
摘要
高质量材料对于等离激元光子学的进步至关重要，尤其是当研究人员现在探索单表面等离激元极限下的量子效应，或利用铝或铜等紫外或CMOS兼容金属时。不幸的是，由于缺乏沉积方法的经验，许多等离激元光子学研究人员在错误的条件下沉积金属，不必要地严重限制了性能。随后，当其他人遵循他们已发表的步骤时，这一问题被加剧。在这篇前瞻性文章中，我们描述了从表面科学文献中收集的简单规则，这些规则允许使用常用设备（热蒸发器）轻松沉积高质量的铝、铜、金和银等离激元薄膜。我们还提供了配方，以便能够常规地获得具有最佳光学性能的薄膜。
引用
@article{arxiv.1603.02132,
title = {Plasmonic Films Can Easily Be Better: Rules and Recipes},
author = {Kevin M. McPeak and Sriharsha V. Jayanti and Stephan J. P. Kress and Stefan Meyer and Stelio Iotti and Aurelio Rossinelli and David J. Norris},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.02132},
year = {2016}
}
备注
Optical Materials Engineering Laboratory, ETH Zurich, 8092 Zurich, Switzerland