高质量石墨烯基莫耳超晶格器件的优化制作工艺
介观与纳米尺度物理
2025-07-22 v1 材料科学
摘要
莫耳超晶格构成一种灵活的平台,用于探索由强相关性与拓扑相互作用产生的新现象,同时提供可实现的可调性。然而,莫耳超晶格的制作具有挑战性。在纳米制造过程中,难以实现具有精确扭转角的高度均匀器件,因为会无意引入异应变、扭转角失序以及角/晶格松弛。本文介绍一种针对石墨烯基莫耳超晶格器件的优化、经验导向的制作方案,重点关注修改的干转移技术。该转移过程在高度可调的定制化转移装置中进行,可实现位置、角度和温度的精确控制。通过结合严格的flake选择准则、预清洁的无气泡底栅以及石墨烯激光切割,在室温下以亚微米速度精确叠加扭转石墨烯flake,构建莫耳超晶格。通过对转移过程的精确控制,所制备的石墨烯莫耳超晶格器件表现出高均匀性和所需扭转角。该优化方案解决了石墨烯基莫耳超晶格器件制作中的现有挑战,为莫耳材料领域的进一步发展铺平了道路。
引用
@article{arxiv.2507.15853,
title = {Optimized Fabrication Procedure for High-Quality Graphene-based Moir\'e Superlattice Devices},
author = {Shuwen Sun and Pablo Jarillo-Herrero},
journal= {arXiv preprint arXiv:2507.15853},
year = {2025}
}
备注
28 pages, 8 figures; for associated video demonstration, see https://www.jove.com/video/68230