非线性激光光刻作为向列相液晶高质量取向的新技术
软凝聚态物质
2021-09-16 v2
摘要
众所周知，当今已使用两种主要且被充分研究过的液晶取向方法，即摩擦取向和光取向技术，它们导致取向层的各向异性性质改变以及液晶分子在介相中的长程相互作用。在本稿件中，我们提出使用非线性激光光刻技术，该技术最近作为一种基于激光诱导周期性表面结构化的快速、相对低成本的大面积微纳沟槽制备方法来被提出，作为向列相液晶取向的一种新且有前景的方法。通过非线性激光光刻在Ti层上形成920 nm周期性沟槽，并作为取向层进行研究。利用组合扭曲LC盒考察了Ti层周期性结构的取向性质。此外，将微结构化Ti层涂覆以氧化二苯胺-聚酰亚胺膜，聚合物膜退火后不作任何进一步处理。研究了LC盒的扭曲角对Ti层处理过程中激光束扫描速度和功率的依赖性。计算了具有周期性微结构的Ti层的方位锚定能。微结构化Ti层的最大方位锚定能约为4.6*10-6 J/m2，与光取向技术相当。发现当在周期性微结构化Ti层上沉积聚酰亚胺膜后，观察到方位锚定能增益至约1*10-4 J/m2。同时，对取向表面进行了AFM研究。
引用
@article{arxiv.1711.02435,
title = {Nonlinear laser lithography as a new technology for the high-quality alignment of nematic liquid crystals},
author = {Ihor Pavlov and Andrey Rybak and Andrii Dobrovolskiy and Volodymyr Kadan and Ivan Blonskiy and Fatih O Ilday and Zoya Kazantseva and Igor Gvozdovskyy},
journal= {arXiv preprint arXiv:1711.02435},
year = {2021}
}
备注
18 pages, 11 Figures