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$e+A$ 深度非弹性散射中小 $x$ 处包含光子+双喷注产生的次领头阶冲击因子

高能物理 - 唯象学 2020-03-04 v2 高能物理 - 理论 核理论

摘要

我们计算了电子-原子核(e+A)深度非弹性散射(DIS)中小 xx 处包含光子+双喷注产生的次领头阶(NLO)冲击因子。我们计算中的一个重要成分是“激波”费米子与胶子传播子的简单结构。这使得人们能够在固定 Q2ΛQCD2Q^2\gg \Lambda_{\rm QCD}^2x0x\rightarrow 0 的 Regge 极限中采用标准动量空间费曼图技术进行高阶计算。我们在色玻璃凝聚(CGC)有效场论中的计算包含了所有扭幂次修正 Qs2/Q2Q_s^2/Q^2 的再求和,其中 QsQ_s 是原子核中的饱和尺度。我们讨论了 CGC 中紫外、共线及软发散的结构,并提取了 xx 中的领头对数;相应快度发散的结构给出了多部分子类光 Wilson 线关联子的 JIMWLK 重整化群演化方程的非平凡第一性原理推导。我们给出了构成 NLO 冲击因子的与 xx 无关的 O(αs)O(\alpha_s) 贡献的显式表达式。这些结果结合已有的 NLO JIMWLK 演化结果,提供了在小 xx 处计算到 O(αs3ln(x))O(\alpha_s^3 \ln(x)) 的包含光子+双喷注截面的要素。在软光子极限中恢复了包含双喷注产生中 NLO 冲击因子的首结果。我们计算的一个副产品是领头阶光子+3 喷注(夸克-反夸克-胶子)截面。

关键词

引用

@article{arxiv.1911.04530,
  title  = {NLO impact factor for inclusive photon$+$dijet production in $e+A$ DIS at small $x$},
  author = {Kaushik Roy and Raju Venugopalan},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1911.04530},
  year   = {2020}
}

备注

104 pages, 35 figures; references added, typo in Eq. 275 corrected