ILC 上 W 玻色子对产生中的次次领头阶电弱对数

J. H. Kuhn; F. Metzler; A. A. Penin

doi:10.1016/j.nuclphysb.2007.11.019

ILC 上 W 玻色子对产生中的次次领头阶电弱对数

高能物理 - 唯象学 2009-04-21 v3

作者: J. H. Kuhn , F. Metzler , A. A. Penin

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摘要

我们在次次领头阶对数近似下，推导了自发破缺 SU(2) 规范理论中规范玻色子产生截面的高能渐近行为。基于此结果，我们获得了 ILC/CLIC 上 W 玻色子对产生微分截面的对数增强型双圈电弱修正，精确到大对数的二次幂。

关键词

电弱修正 W 玻色子对产生次次领头阶对数双圈计算 ILC CLIC 规范玻色子产生渐近行为

引用

@article{arxiv.0709.4055,
  title  = {Next-to-Next-to-Leading Electroweak Logarithms in W-pair Production at ILC},
  author = {J. H. Kuhn and F. Metzler and A. A. Penin},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0709.4055},
  year   = {2009}
}

备注

17 pages, LaTeX, Eqs. (31) and (35) corrected

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