中微子非标准相互作用作为检验味对称性的门户

本文首次讨论了将非阿贝尔离散味对称性施加于中微子非标准相互作用（NSIs）。为明确起见，我们选取 $A_4$ 作为味对称性，其随后在中性 sector 中破缺为剩余对称性 $Z_2$。我们给出了由高维算符（$d\leqslant8$）产生的 NSI 味结构的一般性讨论，且不诱导不必要的树能级四带电费米子相互作用。我们得到了由 $A_4$ 和 $Z_2$ 分别导出的 NSI 纹理。高维算符的 UV 完备对 NSI 纹理带来了额外的实验约束。我们从唯象角度研究了 DUNE 中物质效应 NSI 的实现，发现 DUNE 能以高统计量检验 $A_4$。我们还给出了由 UV 完备模型所建议的求和规则的排除极限。我们的结果表明，尽管预测对 DUNE 而言 NSI 效应较小，但其可提供有用信息，或能拓展我们对味对称性的理解。