原子级光滑表面高速滑动时的纳米磨损与动摩擦
介观与纳米尺度物理
2016-05-10 v1
摘要
利用硬盘驱动器的头-盘接口研究了高滑动速度下的动摩擦与磨损，其中磁头与磁盘间距小于 10 nm，并以 5-10 m/s 的相对滑动速度运动。尽管滑动表面间的间距与各种基于原子力显微镜（AFM）的摩擦基础研究在同一数量级，但滑动速度几乎大了六个数量级，从而提供了一个独特装置来系统研究高滑动速度下的纳米尺度磨损。在硬盘驱动器中，磁头与磁盘间的物理接触导致摩擦、磨损以及磁头覆盖材料（通常为类金刚石碳）的退化。本工作中进行了基于应变片的摩擦测量；提取了头-盘接口的摩擦系数以及粘附剪切强度；并展示了一个用于研究高速滑动表面间摩擦的实验装置。
引用
@article{arxiv.1502.03760,
title = {Nanoscale wear and kinetic friction between atomically smooth surfaces sliding at high speeds},
author = {Sukumar Rajauria and Sripathi V. Canchi and Erhard Schreck and Bruno Marchon},
journal= {arXiv preprint arXiv:1502.03760},
year = {2016}
}