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用于范德瓦耳斯异质结数据密集型光电子测量的多参数动态光响应显微镜

仪器与探测器 2019-02-15 v1 介观与纳米尺度物理

摘要

由二维(2D)材料的范德瓦耳斯(vdW)异质结构制成的量子器件可能开创具有新颖电子特性和异常电子相的设计材料新前沿。然而,由于层状原子结构及其涌现物理的复杂性,实现具有定制物理特性的器件将需要在材料和器件参数的大域上进行综合测量。此类多参数测量需要新策略,将常用于天文学和高能物理的数据密集型技术与固态物理和材料科学的实验工具相结合。我们讨论了综合实验科学面临的挑战,并提出了一种称为多参数动态光响应显微镜(MPDPM)的技术,其利用超快激光、衍射极限扫描光束光学和硬件自动化以时间高效的方式表征2D异质结构的光响应。在vdW异质结构上使用综合方法会产生庞大而复杂的数据集;在MPDPM的情况下,我们测量了大量图像,需要先进图像分析来提取底层物理。我们讨论了一般如何处理此类数据集,以及石墨烯-氮化硼-石墨异质结构光电池这一具体案例。

关键词

引用

@article{arxiv.1812.03232,
  title  = {Multiple Parameter Dynamic Photoresponse Microscopy for data-intensive optoelectronic measurements of van der Waals heterostructures},
  author = {Trevor B. Arp and Nathaniel M. Gabor},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1812.03232},
  year   = {2019}
}