超薄磁性薄膜中界面 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用的测量

Michaela Kuepferling; Arianna Casiraghi; Gabriel Soares; Gianfranco Durin; Felipe Garcia-Sanchez; Liu Chen; Christian H. Back; Christopher H. Marrows; Silvia Tacchi; Giovanni Carlotti

超薄磁性薄膜中界面 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用的测量

介观与纳米尺度物理 2022-03-23 v3 材料科学

作者: Michaela Kuepferling , Arianna Casiraghi , Gabriel Soares , Gianfranco Durin , Felipe Garcia-Sanchez , Liu Chen , Christian H. Back , Christopher H. Marrows , Silvia Tacchi , Giovanni Carlotti

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摘要

Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用(DMI)作为手性磁性的起源之一,目前在应用磁学与自旋电子学研究领域中备受关注。对于未来的应用而言,精确测量其强度是必不可少的。在此,我们综述了测量 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用系数(即 DMI 常数 $D$ )的最新技术现状,重点关注该相互作用源于两种材料界面之间的体系(即界面 DMI)。我们概述了实验技术及其理论背景,以及用于量化 DMI 常数的模型。测量技术分为三类:a)基于畴壁的测量,b)基于自旋波的测量,以及 c)基于自旋轨道转矩的测量。我们分析了每种方法的优缺点,并比较了不同界面处的 $D$ 值。本综述旨在更好地理解不同技术对各种叠层结构的适用性,以及文献值之间表观差异的起源。

关键词

Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用界面 DMI 超薄磁性薄膜畴壁自旋波自旋轨道转矩测量技术

引用

@article{arxiv.2009.11830,
  title  = {Measuring interfacial Dzyaloshinskii-Moriya interaction in ultra-thin magnetic films},
  author = {Michaela Kuepferling and Arianna Casiraghi and Gabriel Soares and Gianfranco Durin and Felipe Garcia-Sanchez and Liu Chen and Christian H. Back and Christopher H. Marrows and Silvia Tacchi and Giovanni Carlotti},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2009.11830},
  year   = {2022}
}

备注

60 pages, 29 figures; Version 3

超薄磁性薄膜中界面 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用的测量

摘要

关键词

引用

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