基于正电子打靶产生低发射度μ子加速器的研究
加速器物理
2018-08-01 v2
摘要
本文提出了一种利用约 45~GeV 的正电子束与靶上电子相互作用来产生极低发射度μ子束的新方案。待研究的创新课题之一是存储在低发射度环中的正电子束与薄靶的行为，该薄靶直接插入环真空室中以产生μ子。μ子可以在靶出射端立即被收集，并传输到两个 和 累积环中，然后加速并注入μ子对撞环。本文重点关注 e 束与靶相互作用的模拟、靶对六维相空间的影响以及 e 环设计的优化以最大化能量接受度。我们将通过比较不同的多圈模拟来研究该方案（环加靶系统）的性能。该源在参考文献 [1] 中被考虑用于多 TeV 对撞机。
引用
@article{arxiv.1803.06696,
title = {Low emittance muon accelerator studies with production from positrons on target},
author = {M. Boscolo and M. Antonelli and O. R. Blanco-Garcia and S. Guiducci and S. Liuzzo and P. Raimondi and F. Collamati},
journal= {arXiv preprint arXiv:1803.06696},
year = {2018}
}
备注
accepted for publication in Physical Review Accelerators and Beams