无光刻的熱发射方向性调控
光学
2026-03-31 v1
摘要
黑体热发射在空间上是弥散的。实现高度定向的热发射通常需要对热发射介质表面进行纳米结构化。最常见的构型是亚波长光栅,其将表面极化激元模式从近场散射到远场并产生天线状的热发射瓣。然而,该概念通常局限于特定线偏振,且需要复杂的光刻技术。本文重新审视平面Salisbury屏这一简单 motif。我们解析地展示了发射层介电常数的实部与虚部之间的相互作用如何定义发射的方向特性,其范围可从弥散到高度定向。我们提出了一种实际构型,并表明六方氮化硼薄膜可在无光刻平台上实现类光栅的热发射瓣。
引用
@article{arxiv.2210.01026,
title = {Lithography-free directional control of thermal emission},
author = {Mitradeep Sarkar and Maxime Giteau and Michael Enders and Georgia T. Papadakis},
journal= {arXiv preprint arXiv:2210.01026},
year = {2026}
}