基于单一夸克对生产过程的Leptoquark质量限制——来自LEP与LEP200

我们研究了在LEP与LEP200$e^+e^-$对撞机中探测第一代leptoquark的发现潜力。我们考虑通过resolved光子贡献产生的单一leptoquark生产，这一过程比更常用的leptoquark对生产过程具有更高的运动学限制。这一过程还有一个优势是它独立于leptoquark的手性，几乎不受leptoquark是标量还是向量的影响，仅取决于leptoquark的电荷。我们估计，根据未观察到的高能$e$-喷子事件，LEP对所有类型的leptoquark质量限制为$M_{LQ} > 90$~GeV。对于刚完成的$\sqrt{s}=161$~GeV能级LEP200运行，我们估计标量leptoquark的质量限制为$Q_{LQ}=-2/3, -4/3$时$M_{LQ} > 130$~GeV，$Q_{LQ}=-1/3, -5/3$时$M_{LQ} > 148$~GeV；而向量LQ的限制分别为140与154~GeV。最终，LEP200应能实现约$188$~GeV的发现限，对应$\sqrt{s}=190$~GeV能级。我们假设leptoquark以电磁强度耦合。