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大型Berry曲率效应由扩展节点结构诱导:理性设计策略与高通量材料预测

材料科学 2025-06-05 v1

摘要

Berry曲率可显著性地改变电子动力学,从而为电子操作和新型器件应用提供有效途径。与Weyl/Dirac半导体中的零维节点点相比,更高维的扩展节点结构(如节点线和节点面)更可能与费米面相交,从而在无需微调化学势的情况下产生大型Berry曲率效应。本文提出了一种利用直线节点线(SNLs)和平坦节点面(FNSs)来设计大型Berry曲率效应的策略,并详尽列举了1651个磁空间群(MSGs)中的SNLs和FNSs。我们展示了SNLs和FNSs可以在布里渊区广泛分布地产生大型Berry曲率。作为应用,我们识别了158个包含FNSs、SNLs或两者兼具且允许非零异常霍尔导电率(AHC)的MSGs。基于这158个MSGs,我们从MAGNDATA磁性材料数据库中进行高通量计算,筛选出AHC值超过500Ω1cm1500\,\Omega^{-1}{\rm cm}^{-1}的60种材料。我们选取了候选材料SrRuO3\rm SrRuO_3Ca2NiOsO6\rm Ca_2NiOsO_6来分别演示FNSs和SNLs对一个和两个非零AHC分量的贡献。我们还研究了通过对称性破坏对AHC的调控,概述了所有可能的对称性破坏路径,并选取了候选材料HoNi通过施加外部磁场来演示这一方法。此外,我们识别出候选材料中的Berry曲率四极矩,表明我们的策略可以推广到Berry曲率多极效应。我们的工作将指导理论和实验中设计大型Berry曲率效应的材料,对广泛的器件应用具有重要意义。

关键词

引用

@article{arxiv.2506.03871,
  title  = {Large Berry curvature effects induced by extended nodal structures: Rational design strategy and high-throughput materials predictions},
  author = {Wencheng Wang and Minxue Yang and Wei Chen and Xiangang Wan and Feng Tang},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2506.03871},
  year   = {2025}
}

备注

15 pages, 7 figures