大角度Bhabha散射与味工厂的亮度
高能物理 - 唯象学
2008-11-26 v1 高能物理 - 实验
摘要
运行在低 lying 强子共振区（E_cm ~ 1-10 GeV）的正负电子对撞机（如BEPC/BES、DAPHNE、KEKB、PEP-II和VEPP-2M）的亮度测定，需要精确计算大散射角下的Bhabha过程。为了达到0.1%量级的理论精度，必须包含辐射修正。QED修正的唯象相关效应在Parton Shower (PS)方法的框架内被考虑，该方法既用于截面计算也用于事例产生。为了检验该方法的可靠性，还开发了一个基准计算，包括精确的O(alpha)修正和更高阶领头对数贡献，并与PS预测进行了详细比较。在Phi工厂Bhabha过程的现实事例选择存在下，研究了O(alpha)次领头阶和更高阶领头修正的影响。提出了一个新的用于数据分析的蒙特卡洛产生器（BABAYAGA），估计精度为0.5%。讨论了旨在提高其精度和适用范围的可能发展。
关键词
引用
@article{arxiv.hep-ph/0003268,
title = {Large-angle Bhabha scattering and luminosity at flavour factories},
author = {C. M. Carloni Calame and C. Lunardini and G. Montagna and O. Nicrosini and F. Piccinini},
journal= {arXiv preprint arXiv:hep-ph/0003268},
year = {2008}
}
备注
LaTeX (elsart.sty), 24 pages, 16 .eps figures